Prášok z jednostenných uhlíkových nanotrubičiek TF1010
Prášok z jednostenných uhlíkových nanotrubičiek TF1010

Prášok z jednostenných uhlíkových nanotrubičiek TF1010

Shandong Tanfeng TF1010 electronic-grade single-walled carbon nanotubes, with tube diameter 1.5–1.7 nm, length >100 μm, čistota jednej steny 98,5 % alebo viac, k dispozícii sú tri druhy ultra-nízkeho kovového popola, vhodné pre tranzistory na báze uhlíka, armádu a letectvo a vysoko čisté kremíkové uhlíkové anódy. Podporuje vzorky vysokej čistoty a pilotné dávkové dodávky s kompletnou sadou testovacích certifikácií.
Zaslať požiadavku

Predstavenie produktu

TF1010 is an electronic-grade ultra-high-purity single-walled carbon nanotube powder prepared by Shandong Tanfeng using super-growth CVD coupled with multi-stage high-temperature deep purification and targeted catalytic impurity removal processes. It is the highest-purity model in the entire single-walled product line, forming a clear gradient distinction from the TF1000 basic single-walled type. The tube diameter is precisely controlled within a narrow distribution range of 1.5–1.7 nm, the pristine carbon tube length is >100 μm, the Raman G/D ratio is >50 a defekty amorfného uhlíka na stenách trubice sú extrémne nízke. Základný diferencovaný indikátor: efektívna čistota jednostenných uhlíkových trubíc je väčšia alebo rovná 98,5 %, čo je výrazne vyššia ako 80 % čistota TF1000. Kovový popol je gradientovo riadený na úroveň stoviek ppm, zvyškové nečistoty katalyzátora sú výrazne znížené, čím sa zásadne predchádza úniku z polovodičového zariadenia, vedľajším reakciám batérie a problémom s posunom signálu.

Bezšvová rúrková štruktúra jednovrstvového grafénu kombinuje balistickú elektrónovú vodivosť, ultra vysokú elasticitu a ultra veľkú špecifickú plochu povrchu (500–1000 m²/g). Množstvo pridaného perkolácie môže byť tak nízke, ako 0,03%, aby sa vytvorila celodoménová vodivá sieť, vhodná pre 7 nm a menej pokročilé procesné tenkovrstvové tranzistory, flexibilné logické obvody, vysoko čisté kremíkové uhlíkové anódy, vojenské a letecké ľahké tienenie, ultravysoko citlivé sledovanie biosnímania a ďalšie vysoko presné prísne scenáre.

Továreň je vybavená kompletnou sadou zariadení určených na testovanie vysoko čistých materiálov vrátane TEM s vysokým rozlíšením, Ramanovej spektroskopie, TGA termogravimetrie a ICP-OES. Každá šarža je vydaná s úplným súborom špeciálnych testovacích správ o obsahu jednej steny, kovových nečistotách, priemere a dĺžke trubice. Výskumným ústavom, polovodičovým podnikom a popredným výrobcom polovodičových batérií sa poskytujú iba vzorky s vysokou čistotou na gramovej úrovni a pilotné šarže na úrovni kilogramov. Vysoko čisté modifikované prášky s aminoskupinami a karboxylovými skupinami môžu byť prispôsobené tak, aby sa prispôsobili disperzii vody/organického rozpúšťadla. Kompletný súbor RoHS, REACH, špeciálnych správ o vysoko čistých ICP nečistotách a kariet bezpečnostných údajov MSDS je kompletný a spĺňa prísne štandardy auditu prijímania materiálov pre dovoz a vývoz vojenských a polovodičových výrobkov.

Balenie: Vákuové vrecká z hliníkovej fólie, PE kompozitné vrecká, tonové vrecká, prispôsobiteľné

Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. packaging Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. packaging
Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. packaging Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. packaging

Technické parametre produktu

Testovacia položka Špecifikácia testovania Testovacia metóda
Všeobecné testovanie    
Vzhľad Čierna Vizuálna kontrola
Priemer rúrky 1,5-1,7 nm SEM, detekcia TEM
Dĺžka trubice >100 μm -
Čistota jednostenných uhlíkových nanorúrok Väčšie alebo rovné 98,5 % TGA
Obsah popola Menšie alebo rovné 2 000 /<500 / <100 ppm Popolová metóda
Špecifická plocha povrchu 500-1000 m²/g Statický analyzátor adsorpcie dusíka
G/D pomer >50 Raman

Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd.

Predstavenie spoločnosti

V roku 2022 spoločnosť investovala 50 miliónov RMB do založenia "Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd." v Heze, provincia Šan-tung, so stavebnou plochou 4000 metrov štvorcových. Teraz je to národný high-tech podnik s viac ako desiatimi nezávislými patentmi.

Výrobné a výskumné a vývojové centrum druhej fázy je plánované na výstavbu v roku 2027. Spoločnosť prešla medzinárodnou certifikáciou systému kvality ISO9001 a vytvorila pokročilú výrobu nanomateriálov a centrum technických služieb pokrývajúce celý proces prevádzky, výskumu a vývoja, pilotnej výroby a výroby. V súčasnosti vlastní kompletné výrobné linky na prášok z uhlíkových nanorúrok, suspenziu uhlíkových nanorúrok, predzmes uhlíkových nanorúrok, vlákna uhlíkových nanorúrok a film z uhlíkových nanorúrok.

Máme profesionálne testovanie a certifikáciu. Pre uhlíkové nanorúrky skutočne nanoúrovne poskytuje technológia Tanfeng charakterizačné údaje pre rôzne modely, ako sú obrázky SEM, obrázky AFM, obrázky HRTEM, Ramanova spektroskopia a röntgenové práškové difrakčné vzory.

Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. factory Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. Production Workshop
Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. Patent Certificate Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. Exhibition

Hlavné výhody produktu

Jednostenná čistota Viac alebo rovná 98,5 %, extrémne nízky obsah nečistôt a rôznych rúrok, prispôsobenie požiadavkám pomeru zapnutia/vypnutia polovodičového zariadenia

V porovnaní s čistotou TF1000 s jednou stenou iba 80%, TF1010 odstraňuje viacvrstvové uhlíkové trubice a amorfné uhlíkové častice prostredníctvom viacstupňového čistenia, pričom rôzne fázové nečistoty predstavujú menej ako 1,5%. Pri použití v tenkovrstvových tranzistoroch s efektom poľa sa pomer zapnutia a vypnutia zariadenia zvýši viac ako 10-krát, bez úniku alebo skreslenia signálu spôsobeného rôznymi kovovými elektrónkami, čo sa prispôsobuje výskumu a vývoju pokročilých integrovaných obvodov na báze uhlíka.

K dispozícii sú tri druhy popola s ultra nízkym obsahom kovu, ktoré úplne riešia problém zlyhania migrácie stopových kovových iónov

Poskytuje tri špecifikácie popola:<100 ppm / <500 ppm / <2000 ppm. Military and semiconductor chips can choose the ultra-pure grade within 100 ppm. Eliminates catalyst metal residue precipitating during device energization, avoiding wafer short circuits, continuous solid-state battery side reactions, and sensor baseline drift.

1.5–1.7 nm narrow tube diameter distribution + >100 μm ultra dlhé nedotknuté tuby, extrémne nízka náplň bez blokovania prenosu svetla

Desaťtisícúrovňový ultravysoký pomer strán, množstvo vodivého prídavku len 0,03 %, dávka plniva znížená o ďalších 30 % v porovnaní s TF1000 pre rovnaký vodivý efekt. Priemer trubice je oveľa menší ako vlnová dĺžka viditeľného svetla, čím sa pripravujú priehľadné vodivé filmy bez zákalu a vysokej priepustnosti, ktoré sa prispôsobujú hromadnej výrobe skladacích obrazoviek a fotovoltaických priehľadných elektród.

Ultra-high crystallinity G/D >50, extrémne málo štrukturálnych defektov steny rúrky, maximalizovaná stabilita elektrochemického cyklu

Steny grafénových trubíc s nízkymi chybami znižujú vedľajšie reakcie na rozhraní elektrolytov. Pri použití v kremíkovo-uhlíkových anódach a polovodičových batériách môžu výrazne potlačiť kontinuálne zahusťovanie filmu SEI, pričom životnosť bunkového cyklu sa zlepšila o viac ako 35 % v porovnaní so základným jednostenným TF1000, pričom sa prispôsobuje vysokovýkonným batériám osobných vozidiel s dlhým dosahom.

Dokáže smerovo oddeliť polovodičové jednostenné uhlíkové trubice, základný substrát pre flexibilné čipy s nízkym výkonom

Vysoko čisté nedotknuté jednostenné suroviny uľahčujú následnú separáciu odstredením v hustotnom gradiente, čím sa vytvára vysoký podiel polovodivých jednostenných uhlíkových nanorúriek s vysokou mobilitou nosiča a extrémne nízkou spotrebou energie zariadenia, čo z nich robí základné suroviny pre flexibilné nízkoenergetické logické obvody novej generácie a mikrosnímacie čipy.

Ultra veľký špecifický povrch 500–1000 m²/g, ultravysoko citlivé zachytávanie stopových molekúl

Masívne elektrochemicky aktívne miesta so schopnosťou adsorpcie a rozpoznávania plynov, biologických proteínov a stopových molekúl ťažkých kovov, ktoré ďaleko presahujú TF1000, prispôsobujúce sa lekárskym diagnostickým biosenzorom a sondám na presné detekcie stôp znečisťujúcich životné prostredie.

Vojenský a letecký plne vyhovujúci vysoko čistý systém, ľahká vodivá a tepelne vodivá integrovaná konštrukčná výstuž

Nezrážavé formulácie s nízkym obsahom nečistôt spĺňajú akceptačné normy leteckých a vojenských elektronických komponentov. Extrémne nízka náplň môže dosiahnuť trojitý efekt trvalej vodivosti, elektromagnetického tienenia a štrukturálneho vystuženia, čím sa výrazne zníži vlastná hmotnosť komponentov satelitov a lietadiel.

Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. Laboratory

Shandong Tanfeng New Materials Technology Co., Ltd. Equipment

Aplikácia produktu

1. Pokročilé procesné uhlíkové polovodiče, tenkovrstvové tranzistory s efektom poľa

7 nm a menej procesné integrované obvody, flexibilné logické čipy, mikro nízkoenergetické snímacie obvody; ultra vysoká čistota jednej steny zaisťuje vysoký pomer zapnutia a vypnutia tranzistora a nízky únik, čím nahrádza tradičné materiály na báze kremíka pre výskum a vývoj mikro-nano elektroniky po Mooreovej ére.

2. Vojenské/letecké materiály s ultra vysokou čistotou a ľahkými vodivými tieniacimi kompozitnými materiálmi

Satelitné ľahké elektromagnetické tieniace kryty, lietadlá na odvod tepla a vodivé integrované panely, elektródy vojenských zariadení na ukladanie energie; nízke kovové nečistoty spĺňajú štandardy dlhodobej stabilnej prevádzky vojenských komponentov na obežnej dráhe.

3. Špičkové silikónovo-uhlíkové anódy, sulfidové napájacie batérie v tuhom stave

Vodivé prísady určené pre kremíkovo-uhlíkové anódy pre špičkovú spotrebnú elektroniku a napájacie batérie osobných vozidiel s dlhým dosahom; ultranízke nečistoty potláčajú samovybíjanie článku, ultra dlhé uhlíkové trubice vyrovnávajú expanziu objemu kremíkových častíc, čím výrazne predlžujú životnosť.

4. Vysoko priepustné flexibilné priehľadné vodivé fólie, skladacie OLED zobrazovacie panely

Výmena vzácneho ITO oxidu india a cínu, príprava nezakalených vysoko priepustných vodivých filmov, prispôsobenie sa skladacím dotykovým displejom, nositeľným lekárskym elektródam EKG a priehľadným kolektorom prúdu fotovoltaických článkov, s útlmom odporu pod 3 % po tisícke ohybov.

5. Ultra-vysoko presné biologické a environmentálne stopové senzory

Senzory na detekciu lekárskych proteínov, detekcia toxických plynov v atmosfére, sondy na monitorovanie stôp vody; ultra veľký špecifický povrch umožňuje rozpoznávanie stopových molekúl na úrovni ppb s citlivosťou detekcie vyššou ako základný jednostenný TF1000.

6. Univerzitné hraničné projekty výskumu nanomateriálov s veľmi vysokou čistotou

Vzorky vysokej čistoty určené na vysoko presný laboratórny výskum a vývoj, ako je separácia chirality polovodičov s jednou stenou, pokročilé čipové mechanizmy na báze uhlíka, mechanizmy s dlhým cyklom polovodičových batérií a ľahké kompozitné materiály pre letectvo a kozmonautiku.

záložné práva

product-1-1

FAQ

Otázka 1: Aké sú hlavné rozdiely medzi výberom jadra medzi TF1010 ultra-vysoko čistými jednostennými a TF1000 základnými jednostennými a ako by si mali vybrať polovodičové čipy?

Odpoveď: Jednostenná čistota TF1000 je len väčšia alebo rovná 80 %, vhodná pre kremíkové uhlíkové anódy, bežné flexibilné vodivé filmy a bežný laboratórny základný výskum a vývoj; Čistota jednej steny TF1010 je väčšia alebo rovná 98,5 %, s kovovým popolom až do 100 ppm a extrémne malým množstvom rôznych rúrok a amorfných uhlíkových nečistôt, špeciálne pre polovodičové integrované obvody, armádu a kozmonautiku, ultra-vysoko presné biologické snímanie, špičkové scenáre s nulovou toleranciou pevných batérií a iné pre vysokú stabilitu zariadenia, nízku netesnosť a dlhé cykly je potrebné zvoliť TF1010.

Q2: Akým scenárom sa prispôsobujú tri špecifikácie popola TF1010?

A: <100 ppm (military/semiconductor chip highest grade), <500 ppm (high-end solid-state batteries, medical sensors), <2000 ppm (high-end silicon-carbon anodes, commercial flexible screens), freely selectable according to downstream product impurity admission standards.

Q3: Jednostenná čistota TF1010 98,5 %, aké zlepšenie to prináša pomeru zapnutia/vypnutia tranzistora?

Odpoveď: Pretože TF1000 obsahuje veľké množstvo viacstenných rôznych elektrónok, pomer zapnutia/vypnutia tranzistora je len 10³–10⁴; TF1010 má extrémne málo rôznych fázových nečistôt a po oddelení môže pomer zapnutia/vypnutia polovodičových uhlíkových trubíc dosiahnuť viac ako 10⁷, čo spĺňa výkonnostné požiadavky pokročilých procesných čipov.

Otázka 4: Keď sa TF1010 používa v polovodičových batériách, o koľko sa môže znížiť samovybíjanie článku v porovnaní s TF1000?

Odpoveď: Kovové katalytické nečistoty TF1010 sú výrazne znížené, 30-dňový útlm kapacity pevného článku pri izbovej teplote sa zníži o 40 % a životnosť cyklu sa zlepší o 35 %, čím sa prispôsobí pilotnej hromadnej výrobe polovodičových batérií s dlhým dosahom pre výrobcov automobilov.

Otázka 5: Je ťažké rozptýliť prášok TF1010 a môže sa prispôsobiť kalom podporujúcim polovodičovú litografiu?

Odpoveď: Amino vysoko čistý modifikovaný prášok TF1010 je možné prispôsobiť, prispôsobiť sa disperzii organického rozpúšťadla s nízkym obsahom nečistôt určenej pre litografiu, bez doštičiek kontaminujúcich zrážanie stopových kovov; naša spoločnosť môže poskytnúť disperzné procesné riešenia s nízkym strihom a vysokou čistotou.

Otázka 6: Pre exportné vojenské a polovodičové projekty môže TF1010 vydávať špeciálne správy o testovaní nečistôt z kovu s vysokou čistotou?

Odpoveď: Každá šarža je vybavená nezávislým testovacím listom ICP-OES s vysokou čistotou popola, ktorý presne označuje zvyškový obsah rôznych kovov katalyzátora. Kompletný súbor dokumentov RoHS, REACH a MSDS je hotový a spĺňa audity tretích strán týkajúce sa dovozu a vývozu vojenských a polovodičových materiálov.

Q7: Akú priepustnosť môže TF1010 dosiahnuť pri príprave transparentných vodivých filmov? Existujú problémy so zákalom?

A: Priepustnosť filmu 90 % alebo viac, zákal<1%, far superior to TF1000 basic single-walled, with no film surface graying or uneven transmittance caused by miscellaneous tubes, adapting to mass production of high-end foldable display panels.

Populárne Tagy: tf1010 jednostenný prášok uhlíkových nanorúrok, Čína tf1010 jednostenný prášok uhlíkových nanorúrok, výrobcovia, dodávatelia, továreň, uhlíkové nanotrubice biologicky odbúrateľné, uhlíkové nanotrubice v úpravách vody, Jednotlivé uhlíkové nanotrubice swcnts, Jednoduchá uhlíková nanotrubica používa, Swcnt, Ultra vysoká čistota uhlíkových nanotrubíc